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    韓國ESOL2023年推出第二代EUV(極紫外)設備原型 已獲得350億韓元資金

    2023-02-11 20:17:33   作者:   來(lái)源:IT之家   評論:0  點(diǎn)擊:


      2 月 11 日消息 報道,韓國 EUV 設備制造商 ESOL 首席執行官 Kim Byung-gook 在接受采訪(fǎng)時(shí)表示,今年將推出其第二代 EUV(極紫外)設備原型。

      KimByung-gook 說(shuō),該公司去年獲得了 350 億韓元(當前約 1.88 億元人民幣)的資金,其中大部分將用于研發(fā)。到目前為止,ESOL 已經(jīng)在其第一代產(chǎn)品線(xiàn)中推出了四款產(chǎn)品。其中,EUV 掩模檢查設備和 EUV 薄膜透光率檢測機已經(jīng)產(chǎn)生收入。

      ESOL 是芯片薄膜制造商 FST 的子公司,由曾在三星芯片業(yè)務(wù)部門(mén)工作的 Kim Byung-gook 于 2018 年創(chuàng )立。

      IT之家了解到,ESOL 主要開(kāi)發(fā) EUV 解決方案,專(zhuān)注于為 EUV 或極紫外光刻應用開(kāi)發(fā)各種解決方案和設備。

      其第一代產(chǎn)品線(xiàn)的另外兩款產(chǎn)品,即 EUV 相位反轉掩模機和用于光刻膠顯影的光刻機,也有望在今年產(chǎn)生收入。

      ESOL 目前的四款產(chǎn)品中的主要產(chǎn)品是其薄膜透光率檢測設備,在該領(lǐng)域它至少要面臨兩個(gè)競爭對手。

      EUV 掩模檢查設備稱(chēng)為 SREM 330.擁有掃描反射 EUV 顯微鏡,還有稱(chēng)為 FREM 或全場(chǎng)反射 EUV 顯微鏡的配套設備正在開(kāi)發(fā)中。

      同時(shí),ESOL 公司 EUV 第二代陣容共有三款產(chǎn)品,其中一款將于今年推出。新設備將包括升級后的 EUV 掩模檢查設備,可以?huà)呙柩谀5恼麄(gè)表面,而不是像第一代機器那樣只掃描某些點(diǎn)。

    【免責聲明】本文僅代表作者本人觀(guān)點(diǎn),與CTI論壇無(wú)關(guān)。CTI論壇對文中陳述、觀(guān)點(diǎn)判斷保持中立,不對所包含內容的準確性、可靠性或完整性提供任何明示或暗示的保證。請讀者僅作參考,并請自行承擔全部責任。

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