據消息，日本經(jīng)產(chǎn)省已決定建立新制度，為向半導體工廠(chǎng)供應工業(yè)用水的設施建設提供補貼，補貼對象包括凈水廠(chǎng)和管道等。在日本政府推動(dòng)發(fā)展芯片產(chǎn)業(yè)鏈、吸引企業(yè)建廠(chǎng)的背景下，上述行動(dòng)旨在確保半導體生產(chǎn)所需的工業(yè)用水。

　　報道稱(chēng)，隨著(zhù)日本政府為了加強半導體供應鏈而推動(dòng)生產(chǎn)基地的建設，日本各地建立和擴大半導體相關(guān)生產(chǎn)基地的舉措不斷涌現。但半導體在清洗等過(guò)程中使用大量的水，確保工業(yè)用水是一個(gè)問(wèn)題。

　　其中，臺積電計劃與索尼等在熊本縣共同建設的工廠(chǎng)目前計劃使用地下水。雖然臺積電也在考慮建設第二家工廠(chǎng)，但當地居民擔心對地下水的影響，熊本縣正在考慮建設工業(yè)用水所需的設施。

　　因此，日本經(jīng)產(chǎn)省制定了新的制度，為工業(yè)用水所需的凈水廠(chǎng)和水管等設施的建設提供補貼。此后其還將考慮具體制度，例如支持通過(guò)向民間企業(yè)委托管理來(lái)提高企業(yè)的管理效率。

　　據悉，日本政府上個(gè)月重新修訂芯片策略，目標是在2030年前，讓國內制半導體銷(xiāo)售額增加兩倍至超過(guò)15萬(wàn)億日元(1080億美元)，此舉凸顯出芯片在日本經(jīng)濟安全政策占有核心地位。